【產(chǎn)通社，3月28日訊】盛美半導體設備（上海）股份有限公司（ACM Research, Inc）官網(wǎng)消息，其在上海新國際博覽中心舉行的SEMICON China 2021的3659號展位上展示立式爐系統(tǒng)：300mm Ultra Fn立式爐干法工藝設備產(chǎn)品系列。

SiN LPCVD立式爐增加了心的半導體制造工藝：非摻雜的多晶硅沉積、摻雜的多晶硅沉積、柵極氧化物沉積、高溫氧化和高溫退火。該可配置的系統(tǒng)設計，與盛美現(xiàn)有的氧化物、氮化物沉積系統(tǒng)大部分硬件可通用，從而降低了總成本。 該系統(tǒng)可便捷地更換組件，以實現(xiàn)不同客戶的定制化工藝需求。

查詢進一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://www.acmrcsh.com.cn/forefront.html?CatalogId=86。（張怡，產(chǎn)通發(fā)布）    （完）