【產(chǎn)通社，3月21日訊】北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司（NAURA Technology Group Co., Ltd.；股票代碼：002371）官網(wǎng)消息，其于2021年3月17-19日在上海新國際博覽中心舉行SEMICON China，展示為集成電路、先進(jìn)封裝、半導(dǎo)體照明、功率半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、平板顯示、新能源光伏等高新領(lǐng)域量身定做的ETCH、PVD、CVD、Furnace、Wet Clean等高端半導(dǎo)體工藝裝備及解決方案，展現(xiàn)科技之美。  

演講題目：三維集成領(lǐng)域設(shè)備工藝解決方案
Processes and Equipment Solutions in 3D IC Manufacturing
演講時(shí)間：3月18日 9:20-9:45
演講地點(diǎn)：上海浦東嘉里大酒店，浦東廳 1+2+3

演講題目：自我對準(zhǔn)圖形轉(zhuǎn)換技術(shù)在邏輯與記憶體產(chǎn)品的應(yīng)用
Self alignment multiple patterning solution for logic and memory product
演講時(shí)間：3月19日 10:10 - 10:35
演講地點(diǎn)：上海浦東嘉里大酒店，浦東廳 1+2+3

演講題目：熱處理工藝及裝備在功率半導(dǎo)體中的應(yīng)用
Heat treatment processes and equipment applications in power Semiconductor
演講時(shí)間：3月18日 15:35-16:00
演講地點(diǎn)：上海浦東嘉里大酒店，浦東廳大宴會(huì)廳 4

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
講      師：北方華創(chuàng) 林源為 博士
演講題目：Perspective on Plasma Etching in Advanced Packaging
演講時(shí)間：3月14日 13:30 – 14:00
演講方式：線上會(huì)議 

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
講      師：北方華創(chuàng) 孔宇威 
演講題目：Deep and Vertical Polyimide Etching
演講時(shí)間：3月14日 16:20 – 16:35
演講方式：線上會(huì)議

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
講      師：北方華創(chuàng) 蔣中偉 博士
演講題目：The Etching Morphology of Silver Study by Inductively CoupledAr-Based Plasmas
演講時(shí)間：3月14日 16:30 – 16:45
演講方式：線上會(huì)議 

Symposium IV: Thin Film, Plating and Process Integration
講      師：北方華創(chuàng)  孫妍
演講題目：Developments of Improving STI Formation and Quality by Annealing for 28nm CMOS Technology Node & Beyond
演講時(shí)間：3月14日8:55 – 9:10
演講方式：線上會(huì)議 

SymposiumVII: Packaging and Assembly
講      師：北方華創(chuàng) 董子晗 
演講題目：Ashing Process on Warpage Wafer With Low Damage
演講時(shí)間：3月14日 16:05 – 16:20
演講方式：線上會(huì)議 

查詢進(jìn)一步信息，請?jiān)L問官方網(wǎng)站http://www.naura.com/index.php/news/news_art/2278.html。（張怡，產(chǎn)通發(fā)布）    （完）