【產(chǎn)通社，7月26日訊】蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司（SVG Optronics；股票代碼：300331）官網(wǎng)消息，在6月27日于上海新國際博覽中心開幕的半導(dǎo)體盛會SEMICON China 2020，其展出了系列光刻方案：
先進(jìn)的SLM+PLM組合光學(xué)架構(gòu)
·基于高精度DMD的SLM空間光調(diào)制激光直寫和PLM位相調(diào)制
·支持500nm分辨率的任意圖形和100nm的特征圖形光刻

海量數(shù)據(jù)處理全尺寸覆蓋
·最大支持110”數(shù)據(jù)處理
·SLM空間光調(diào)制，數(shù)據(jù)處理速率達(dá)30000幀/秒
·PLM位相調(diào)制，數(shù)據(jù)處理速率達(dá)30000幀/秒

頻閃平鋪光斑曝光
·運(yùn)行效率比傳統(tǒng)采用Scanning的激光直寫系統(tǒng)提高數(shù)倍以上
·多寫入模式（頻閃光斑平鋪曝光、灰度曝光、拖曳掃描和矢量掃描）的選擇能夠針對
·不同的應(yīng)用需求優(yōu)化圖形與微結(jié)構(gòu)的性能

3D導(dǎo)航飛行曝光
·3D導(dǎo)航:Z軸驅(qū)動分辨率20nm、行程:20mm，保障大幅面基板微納圖形聚焦
·4軸同時曝光：通過納秒時序(10ns-30ns),匹配位置,在高速運(yùn)行中曝光,達(dá)500mm/s
·重疊曝光：實(shí)現(xiàn)了深紋微結(jié)構(gòu)

光刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)的核心設(shè)備之一。秉承“直寫，讓光刻變得更簡單”的理念，蘇大維格集團(tuán)始終立足市場需求，不斷實(shí)現(xiàn)突破。自主研發(fā)的圖形化直寫系統(tǒng)，應(yīng)用空間光調(diào)制（SLM）技術(shù)和位相調(diào)制（PLM）技術(shù)，實(shí)現(xiàn)亞微米直寫光刻。在應(yīng)用中省去了繁瑣的掩膜加工步驟，滿足多樣化客戶的不同需求，解決了客戶因修改圖形等待掩膜而無法進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的煩惱。支持2-65英寸的寫入面積，為專門集成電路、平板顯示、微機(jī)電系統(tǒng)等需要進(jìn)行掩膜和微結(jié)構(gòu)圖形快速制造的應(yīng)用場景提供了完美的解決方案。

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