【產(chǎn)通社，3月6日訊】上海微電子裝備有限公司（SMEE）官網(wǎng)消息，其于2月22日-26日參加了國際光學(xué)工程學(xué)會（SPIE）舉辦的先進(jìn)光刻會議。會議期間，參會團(tuán)隊(duì)就極紫外光刻、光學(xué)光刻、測量及工藝過程控制、先進(jìn)光刻技術(shù)的轉(zhuǎn)移應(yīng)用等領(lǐng)域，與業(yè)內(nèi)技術(shù)領(lǐng)先的公司和專家進(jìn)行了深入的交流和討論。

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