【產(chǎn)通社，12月2日訊】中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所（Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics）官網(wǎng)消息，其近期與工程部在小磨頭拋光工藝研究中取得新進(jìn)展。研究首次提出數(shù)學(xué)模型補(bǔ)償機(jī)器人拋光定位誤差問題的方式，并取得了較好的誤差補(bǔ)償結(jié)果。相關(guān)研究成果以“Plug-and-play positioning error compensation model for ripple suppressing in industrial robot polishing”為題發(fā)表在Applied Optics上。

基于工業(yè)機(jī)器人的拋光設(shè)備具有低成本、高自由度和高動(dòng)態(tài)性能等優(yōu)勢，在光學(xué)制造領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。然而，工業(yè)機(jī)器人較大的定位誤差會(huì)導(dǎo)致表面波紋，嚴(yán)重制約系統(tǒng)性能，而目前只能通過每次加工前的測量來低效補(bǔ)償這一誤差。

針對這一問題，研究人員發(fā)現(xiàn)了定位誤差的周期相位演化規(guī)律，并建立了雙正弦函數(shù)補(bǔ)償模型。在自主研發(fā)的機(jī)器人拋光平臺(tái)上，結(jié)果表明，補(bǔ)償后整個(gè)工作區(qū)的 Z 軸誤差可降為±0.06mm，達(dá)到機(jī)器人重復(fù)定位誤差水平；測量誤差與建模誤差的 Spearman 相關(guān)系數(shù)均在 0.88 以上。在實(shí)際拋光實(shí)驗(yàn)中，無論是圖形拋光還是均勻拋光，在不同條件下，所提出的模型都能顯著抑制定位誤差帶來的波紋誤差。此外，功率譜密度（PSD）分析表明，相應(yīng)的頻率誤差也得到了顯著抑制。相關(guān)研究成果為機(jī)器人拋光機(jī)提供了一種高效的即插即用補(bǔ)償模式，為進(jìn)一步提高機(jī)器人加工精度和效率提供了新的可能性。

相關(guān)工作得到了科技部重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、國家自然科學(xué)基金、上海市啟明星揚(yáng)帆計(jì)劃等基金的支持。查詢進(jìn)一步信息，請?jiān)L問官方網(wǎng)站http://siom.cas.cn/xwzx/kydt，以及http://opg.optica.org/ao/fulltext.cfm?uri=ao-62-32-8670&id=542269。（張怡，產(chǎn)通發(fā)布）    （完）