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Chipworks分析三星DMZ,揭示銅制CMOS影像感測器
2006/3/31 14:11:55     Chipworks

    2006年3月31日(香港訊)- 作為一家專門從事反向還原工程(reverse engineering)及系統(tǒng)分析之半導體業(yè)界領導廠商,Chipworks公司今天宣布,分析了三星電子最新的S5K3BAF 2Mp CMOS影像感測器 (CIS)模組。這是Chipworks首次發(fā)現(xiàn)運用了130納米銅制程的CIS技術。圖像陣列的“De-Metallized Zone(DMZ)”結構消除了反射耐蝕層,促進了光學效率。

    Chipworks技術情報部經(jīng)理Gary Tomkins先生表示:“三星電子這套整合方案十分巧妙,把介電堆疊的圖像陣列電介質(zhì)進行解耦。它容許了外部電路更多金屬的應用,保證了更高質(zhì)素的電晶體整合及系統(tǒng)性能。除此之外,130納米銅制程允許應用MIM(金屬-絕緣體-金屬)電容器,以及主動像素感測器(APS)較低的厚度結構,因此改善了在較低圖素下的光學性能,為一項杰出技術!

    Chipworks高級技術分析師Dick James先生表示:“三星電子于300納米銅線上組裝了此技術,顯著降低晶片成本,與此同時,亦改良了較細晶粒的性能。三星電子新一代的嶄新制程大有可能贏得更多設計大獎,有趣的是,當成本降低及性能提升,會否吸引其他競爭對手如東芝、Micron、臺積公司及聯(lián)華電子采用此技術,把CIS組裝到銅線!

    Chipworks的客戶依賴公司的分析報告,提取最尖端的技術情報。他們應用了Chipworks所提供可靠及忠實的資料,為改善自家的設計及制程,同時間保持其競爭優(yōu)勢。如欲訂購報告,請電郵至 insidetechnology@chipworks.com

    (完)
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