【產通社，12月17日訊】Gigaphoton株式會社官網(wǎng)消息，其已開始批量生產出廠采用新技術的最新半導體制造光刻光源ArF浸沒式激光器GT66A。

Gigaphoton董事長兼總經理浦中克己表示：“近年來，半導體芯片被要求具有更高的通信速度，并且可以處理大量數(shù)據(jù)。主要支持它的是邏輯和存儲器半導體的細微化，這需要光刻技術的進一步創(chuàng)新來實現(xiàn)高生產率。Gigaphoton將通過技術創(chuàng)新改善成像性能并提高光源的Availability，為新一代產業(yè)界的發(fā)展做出貢獻�！�。


產品特點


目前，最尖端產品制造開始為邏輯器件開發(fā)3nm節(jié)點工藝，并開始批量生產用于DRAM的1Znm節(jié)點。如何在這些超微細器件中降低轉印到晶圓上的曝光圖案的粗糙度是一個難題，而且重要的是忠實地再現(xiàn)電路圖案并提高批量生產的成品率。

GT66A新型光刻光源ArF浸沒式激光器通過新開發(fā)的光學模塊將脈沖發(fā)光時間延長到以前的3倍以上，從而改善曝光面的光束均勻性，成功降低粗糙度。還通過引入最新的高度耐用零件，將模塊的維護周期延長30%。

此次，GT66A已通過荷蘭大廠ASML公司最新ArF浸沒式曝光設備NXT:2050i用光源的認證，開始為最終用戶批量生產出廠光源。


供貨與報價


查詢進一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://www.GIGAPHOTON.com。（Donna Zhang, 張底剪報）    （完）