【產(chǎn)通社，7月25日訊】上海微電子裝備有限公司（SMEE）官網(wǎng)宣布，由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局和世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織共同評(píng)選的第二十一屆中國專利獎(jiǎng)7月15日正式發(fā)布授獎(jiǎng)決定，其發(fā)明專利“一種步進(jìn)光刻設(shè)備及光刻曝光方法（ZL201110241791.3）”榮獲第二十一屆中國專利優(yōu)秀獎(jiǎng)，這也是我司獲得的第九項(xiàng)中國專利優(yōu)秀獎(jiǎng)。

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