【產(chǎn)通社，6月8日訊】上海微電子裝備有限公司（SMEE）官網(wǎng)宣布，在2019世界半導(dǎo)體大會(huì)上，其SSB300系列高性能LED步進(jìn)投影光刻機(jī)榮獲“第十三屆（2018年度）中國半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)”獎(jiǎng)。

該系列產(chǎn)品主要面向6英寸以下中小基底先進(jìn)光刻應(yīng)用領(lǐng)域，滿足HB-LED、MEMS和Power Devices等工藝制程中的單面或雙面光刻工藝需求。具有高分辨率、高產(chǎn)能和高套刻精度等特點(diǎn)，并具備高速在線Mapping技術(shù)、多尺寸基底自適應(yīng)切換、工件臺吸盤污染監(jiān)控、可變狹縫和背面對準(zhǔn)等功能，具有很強(qiáng)的工藝適應(yīng)性。

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