【產(chǎn)通社，5月6日訊】中國科學(xué)院微電子研究所（Microelectronice of Chinese Academy of Sciences）官網(wǎng)消息，在4月20-21日召開的第十四屆中國電子信息技術(shù)年會(huì)上，其“28納米及先導(dǎo)工藝集成電路可制造性設(shè)計(jì)關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”項(xiàng)目榮獲中國電子學(xué)會(huì)科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)。 

“28納米及先導(dǎo)工藝集成電路可制造性設(shè)計(jì)關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”項(xiàng)目由EDA中心陳嵐研究員領(lǐng)銜的先進(jìn)集成電路設(shè)計(jì)及EDA技術(shù)團(tuán)隊(duì)完成，團(tuán)隊(duì)面向國際發(fā)展前沿和國家重大需求，以集成電路設(shè)計(jì)重大應(yīng)用問題為牽引，系統(tǒng)深入的研究了芯片設(shè)計(jì)與工藝協(xié)同的技術(shù)，CMP新型工藝精確建模技術(shù)，高性能版圖數(shù)據(jù)并行處理技術(shù)，基于物理知識庫的設(shè)計(jì)與工藝協(xié)同優(yōu)化等DFM核心技術(shù)，形成了系統(tǒng)的技術(shù)體系，取得了先進(jìn)納米工藝可制造性設(shè)計(jì)解決方案、快速大版圖數(shù)據(jù)處理算法、10多套PDK/iPDK/ePDK以及通用IP電路等系列原創(chuàng)性科技成果，已在國內(nèi)龍頭企業(yè)進(jìn)行應(yīng)用驗(yàn)證并獲得了高度評價(jià)，為我國先導(dǎo)工藝的應(yīng)用推廣做出了重要貢獻(xiàn)。 

相關(guān)研究工作得到了國家科技重大專項(xiàng)課題、國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目和北京市科委項(xiàng)目、中科院等項(xiàng)目的資助。查詢進(jìn)一步信息，請?jiān)L問官方網(wǎng)站http://www.ime.cas.cn。（Lisa WU, 365PR Newswire）    （完）