【產(chǎn)通社，11月22日訊】杭州遠(yuǎn)方光電信息股份有限公司（EVERFINE Corporation；股票代碼：300306）消息，其近日收到美國專利商標(biāo)局頒發(fā)的《METHOD FOR ANALYSIS OF THERMAL RESISTANCE（一種熱阻分析方法）》發(fā)明專利證書，專利號US10,094,792B2，申請日期2013年12月24日，授權(quán)公告日2018年10月9日，專利權(quán)期限為二十年，自申請日起算。

本發(fā)明提供了一種熱阻分析方法，通過建立被測對象的熱傳導(dǎo)數(shù)學(xué)模型，并基于熱源的關(guān)鍵數(shù)據(jù)和熱學(xué)模型參量雙向求解和分析熱傳導(dǎo)數(shù)學(xué)模型，可以準(zhǔn)確獲取被測對象接觸界面的熱阻以及各熱傳導(dǎo)部件內(nèi)部的熱阻分布，實現(xiàn)被測對象熱阻結(jié)構(gòu)的準(zhǔn)確量化分析，全面評價被測對象內(nèi)部的熱接觸狀況，為LED、二極管等各種器件的散熱設(shè)計提供重要依據(jù)和評判手段，具有準(zhǔn)確度高、速度快、適用范圍廣等特點。

查詢進(jìn)一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://www.everfine.cn。（robin, 張底剪報）    （完）