【產(chǎn)通社，5月1日訊】Gigaphoton株式會社官網(wǎng)消息，其從2018年1月份已經(jīng)向客戶供給最新半導體產(chǎn)品以滿足近年來不斷高漲的需求，面向最先進的液浸式漏光（光刻）裝置的ArF受激準分子激光器GT65A 1號機。GT65A改善了激光器的穩(wěn)定稼動性能及制程范圍，為提高光刻裝置的生產(chǎn)性能做出了極大貢獻。

Gigaphoton董事長浦中克己發(fā)表評論說，“近年來半導體市場發(fā)展良好，提高光刻裝置的稼動率成為各廠家的重要課題。我們將沿著新技術(shù)路線圖‘RAM Enhancement’，采用新技術(shù)，進一步強化并改善光刻光源的可靠性（Reliability）、稼動率（Availability）、維修效率（Maintainability），為半導體制造業(yè)做出貢獻。”


產(chǎn)品特點


GT65A最多可縮短50%的中斷時間，這一特征是通過將作為主要模塊的腔體壽命延長30%，并以Gigaphoton迄今為止積累的經(jīng)驗和技術(shù)為基礎，提高維修效率而實現(xiàn)的。另外，具有光譜控制功能的穩(wěn)定化技術(shù)eMPL Solid，以及控制功能hMPL提高了CD的均一性，并且優(yōu)化程序，使擴展性成為可能。

同時,GT65A實現(xiàn)了不使用氦氣的目標，這不僅減輕了環(huán)境負荷，而且大幅度降低了未來氦氣供給不足以及價格飛漲的風險，為客戶提高環(huán)境可持續(xù)發(fā)展及CRS活動做出了貢獻。


供貨與報價


查詢進一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://www.gigaphoton.com/cs/category/news。    （完）