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安森美HighQ硅銅集成無(wú)源器件工藝和IPD產(chǎn)品設(shè)計(jì)工具
2007/6/12 23:49:37     安森美半導(dǎo)體

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產(chǎn)品付運(yùn)量每年超過300億顆的全球半導(dǎo)體方案供應(yīng)商——安森美半導(dǎo)體(ON Semiconductor,美國(guó)納斯達(dá)克上市代號(hào):ONNN)6月12日宣布,將其先進(jìn)的制造工藝技術(shù)擴(kuò)大到HighQ硅-銅集成無(wú)源器件(IPD)的制造服務(wù)領(lǐng)域。與昂貴、超高性能的基于砷化鎵-金工藝無(wú)源器件相比,這創(chuàng)新的8英寸晶圓技術(shù)比原來較低精密程度的硅-銅工藝成本更低,性能更高。

安森美半導(dǎo)體的HighQ IPD工藝技術(shù)是諸如不平衡變換器、耦合器和濾波器等無(wú)源器件制造的理想選擇。對(duì)于便攜和無(wú)線應(yīng)用,高性能等于延長(zhǎng)電池壽命。

安森美半導(dǎo)體制造服務(wù)總經(jīng)理Rich Carruth說:“目前,為了向市場(chǎng)推出具有價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)力的電子消費(fèi)品,設(shè)計(jì)人員在為板選擇無(wú)源器件時(shí)只好犧牲性能。以砷化鎵-金工藝制造的無(wú)源器件提供較好的性能,但是過高的總體制造成本限制了其用于手機(jī)和其他無(wú)線產(chǎn)品。而典型的硅-銅工藝制造的無(wú)源器件比砷化鎵無(wú)源器件制造成本低,只是性能稍遜。采用安森美半導(dǎo)體HighQ工藝制造的無(wú)源器件,為設(shè)計(jì)人員提供具價(jià)值的第三個(gè)選擇——比普通硅-銅器件的Q值高,比砷化鎵無(wú)源器件更具價(jià)格優(yōu)勢(shì)!

·工藝

位于美國(guó)的世界級(jí)安森美半導(dǎo)體200mm制造廠采用的是IPD工藝。該廠具世界一流水平的原型和生產(chǎn)周期,高科技產(chǎn)品生產(chǎn)和故障分析設(shè)備和系統(tǒng)。HighQ制造工藝制造出銅鍍層厚實(shí)的電感器、MIM電容器(0.62 fF/um2) 以及TiN電阻器(9 ohms/square),工藝成熟,將滿足全部可靠性評(píng)估標(biāo)準(zhǔn),顯示了該方案的穩(wěn)健。
* 加工溫度-65°C/150°C
* 金屬、Vias和MIM電容器上固有的穩(wěn)定性
* 高溫反位相(Op)壽命(150°C, 504小時(shí))
* 額定ESD:HBM, MM

·IPD產(chǎn)品

Carruth表示:“安森美半導(dǎo)體已經(jīng)為準(zhǔn)備生產(chǎn)的客戶以及需要定制產(chǎn)品設(shè)計(jì)方案的客戶提供了HighQ制造服務(wù)。我們快速的原型建立能力,使客戶在短短6周即可完成硅設(shè)計(jì)到制造。”

HighQ造工藝是不平衡變換器、濾波器和濾波器/耦合器等用于便攜和無(wú)線應(yīng)用產(chǎn)品的最佳選擇。安森美半導(dǎo)體目前正在開發(fā)HighQ高帶寬濾波器系列,用于在高速串行接口上降低電磁干擾(EMI)。樣品將于今年夏季推出,計(jì)劃在第四季度生產(chǎn)。

·IPD設(shè)計(jì)工具

安森美半導(dǎo)體為制造服務(wù)的客戶提供用于IPD技術(shù)的設(shè)計(jì)組件,能夠有效仿真的第一硅方案結(jié)果,并包含標(biāo)準(zhǔn)的Cadence設(shè)計(jì)工具:
* PCELL生產(chǎn)器、Views等;
* Cadence Assura DRC、LVS;
* 帶有安捷倫ADS模型的 Cadence RFDE環(huán)境;
* 從布局到HFSS仿真環(huán)境全自動(dòng)轉(zhuǎn)化。

安森美半導(dǎo)體為潛在客戶提供這套設(shè)計(jì)組件,幫助他們進(jìn)行快速的建立原型。更多技術(shù)信息,請(qǐng)?jiān)L問 www.onsemi.com.cn,或聯(lián)系Frank Myers(電郵地址:frank.myers@onsemi.com)。

    (完)
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