【產通社，2月24日訊】晶元光電（EPISTAR Corporation）官網消息，其研發(fā)中心（EPISTAR LAB）近日成功開發(fā)并導入許多前瞻性技術，如新穎性透明導電薄膜（TCO）材料、復合式反射鏡結構、減少光線吸收之磊晶設計等。EPISTAR LAB將相關技術導入后，有效地增加光子萃取效率，已大幅提升IR產品效能，創(chuàng)下多項新紀錄。

產品特點

SFPN42芯片尺寸1×1mm²，實驗室環(huán)境中在操作電流40mA下，達最高光電轉換效率75%；操作電流350mA下WPE大于70%；1A操作電流下，發(fā)光強度更是超越了1W，達輸出功率1027mW，領先各業(yè)界群雄，如此亮眼的水平使LED更趨于省電節(jié)能。

IR 850nm產品的應用范圍除以往的搖控器、開關等傳統(tǒng)應用之外，也包括保全監(jiān)視、智能觸碰屏幕、無線通信及交通系統(tǒng)等新應用。

供貨與報價

查詢進一步信息，請訪問官方網站http://www.epistar.com.tw。