【產(chǎn)通社，8月16日訊】應(yīng)用材料公司（Applied Materials, Inc.）官網(wǎng)消息，其SEMVision系列增加了最新缺陷檢測(cè)及分類技術(shù)，加速達(dá)成10納米及以下的頂尖芯片生產(chǎn)良率。Applied SEMVision G6缺陷分析系統(tǒng)結(jié)合前所未有高分辨率、多維影像分析功能，及革命性創(chuàng)新的Purity自動(dòng)化缺陷分類（Automatic Defect Classification; ADC）系統(tǒng)高智能的機(jī)器學(xué)習(xí)算法，樹立了全新的效能標(biāo)竿，同時(shí)為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)引進(jìn)首創(chuàng)缺陷檢測(cè)掃瞄電子顯微鏡（DR SEM）技術(shù)。

應(yīng)用材料公司企業(yè)副總裁暨制程診斷與控制事業(yè)處總經(jīng)理Itai Rosenfeld表示：“在面對(duì)新的10納米設(shè)計(jì)規(guī)則及3D架構(gòu)技術(shù)要求，現(xiàn)有的缺陷檢測(cè)及分類技術(shù)能力面臨挑戰(zhàn)。我們新型的SEMVision G6與Purity ADC以無(wú)與倫比影像分析及更快且更準(zhǔn)確的強(qiáng)大分類工具，解決半導(dǎo)體業(yè)缺陷檢測(cè)諸多制程控制上最艱巨的問(wèn)題。多家業(yè)界領(lǐng)導(dǎo)市場(chǎng)的客戶已裝置SEMVision G6與Purity ADC系統(tǒng)，并且受惠100%更快速的產(chǎn)出、優(yōu)異的影像功能和最先進(jìn)的分類質(zhì)量，因而提高良率�！�

產(chǎn)品特點(diǎn)

SEMVision G6系統(tǒng)設(shè)備的分辨率，相較于前一款提高了30%，為業(yè)界最高。這項(xiàng)能力與其獨(dú)特的電子光束傾角，使其優(yōu)異并且經(jīng)過(guò)實(shí)地應(yīng)用驗(yàn)證的缺陷檢測(cè)掃描電子顯微鏡，能夠辨別、分析及發(fā)現(xiàn)3D鰭式晶體管（FinFET）以及10納米制程高深寬比結(jié)構(gòu)的缺陷。

G6系統(tǒng)設(shè)備先進(jìn)的偵測(cè)組合及精密的制程，能讓微小且不易被發(fā)現(xiàn)的缺陷，以高質(zhì)量層析成像影像（topographical images）呈現(xiàn)。以高動(dòng)態(tài)范圍偵測(cè)、采集的背向散射電子影像與能量濾能可提供高深寬比影像拍攝。高能量圖像處理能以“看穿”滲透的方式，找出重要電子層的缺陷。

Purity ADC系統(tǒng)以智能機(jī)器學(xué)習(xí)算法分析并分辨缺陷，確保精確度、質(zhì)量及一致性，提供穩(wěn)定制程控制、快速而可靠的實(shí)時(shí)檢測(cè)。靈敏的機(jī)器學(xué)習(xí)算法能夠從數(shù)量龐大的非致命性缺陷或假警訊中區(qū)別真缺陷，這是隨著微縮和設(shè)計(jì)復(fù)雜度的增加，必須克服的挑戰(zhàn)。藉由Purity ADC建立的智能分析與分類的流程，首次讓客戶信心大增，在生產(chǎn)環(huán)境中仰賴全自動(dòng)式檢測(cè)系統(tǒng)，準(zhǔn)確及迅速地識(shí)別缺陷的分級(jí)，并且加速良率提升。

供貨與報(bào)價(jià)

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